(0721) 8030188    [email protected]   

Pengembangan Metode Electrochemical Deposition dengan Rasio Voltase Superposisi Sinyal AC dan DC untuk Pelapisan Hidroksiapatit pada Titanium Alloy Ti-6Al-4V sebagai Implan Ortopedi


Implan ortopedi adalah perangkat medis yang digunakan untuk menopang tulang, mengganti sendi atau tulang, dan melekatkan kembali ligamen atau tendon ke dalam tubuh manusia. Ti-6Al-4V memiliki sifat inert sehingga diperlukan modifikasi permukaan Ti-6Al-4V dengan cara pelapisan hidroksiapatit (HAp) untuk meningkatkan bioaktivitasnya. Untuk mengatasi masalah tersebut, penelitian ini menggunakan metode Electrochemical deposition (ECD) dengan rasio voltase AC dan DC. Penelitian ini bertujuan untuk menganalisis kemampuan pelapisan HAp pada permukaan Ti-6Al-4V dalam meningkatkan biokompatibilitas dan osseointegrasi. Kombinasi tegangan AC+DC yang digunakan adalah: “VAC 10 V & VDC 2,5 V”, “VAC 10 V & VDC 5 V” dan, “VAC 10 V & VDC 7,5 V”. Karakterisasi yang dilakukan menggunakan FESEM-EDS, XRD, pengukuran kekasaran permukaan, uji sudut kontak serta uji bioaktivitas dengan larutan Simulated Body Fluid (SBF) selama 14 hari. Analisis FESEM-EDS pada rasio tegangan 2,5 V struktur morfologi kurang teratur dengan fase Ca-def, tegangan 5 V membentuk struktur jarum yang lebih terorganisir meskipun beberapa masih berbentuk bulat fase CRIAP I, tegangan 7,5 V struktur jarum kristal yang lebih tajam dan padat fase CRIAP II. Derajat kristalinitas pada masing-masing rasio tegangan sebesar 34,62%, 36,29%, dan 53,38%. Hasil pengukuran kekasaran permukaan 0,90 μm, 1,85 μm, dan 4,20 μm. Sudut kontak yang dihasilkan 21,3°, 18,5°, dan 12,0°. Hasil uji bioaktivitas menunjukkan rasio tegangan yang lebih tinggi menghasilkan morfologi permukaan yang lebih kasar dan berpori dengan masing-masing fase β-TCP, Ca-def, dan Ca-def. Kesimpulannya pelapisan HAp dapat dioptimalkan dengan rasio voltase superposisi sinyal AC+DC.

URI
https://repo.itera.ac.id/depan/submission/SB2411250053

Keyword
Implan ortopedi Ti-6Al-4V Hidroksiapatit Electrochemical deposition (ECD) rasio voltase AC dan DC.