View/Open

Author
Yulia, Elfena

Advisor
Marsudi, Siburian, S.Si., M.Biotech.
Muhammad, Prisla Kamil, S.Pd., Ph.D.
Endah,, S.Pd., M.Biotech.

Koleksi
Undergraduate Thesis

Publisher

Implan tulang adalah perangkat yang digunakan untuk menyokong atau menggantikan fraktur tulang. Implan tulang biasanya terbuat dari material titanium dan paduannya, seperti Ti-6Al-4V, yang memiliki sifat inert sehingga memerlukan pelapisan hidroksiapatit (HA) untuk meningkatkan bioaktivitas nya. Untuk mengatasi masalah tersebut, penelitian ini menggunakan metode Electrochemical deposition (ECD) dengan kombinasi sinyal AC dan DC (VAC=VDC), untuk menganalisis pengaruh variasi tegangan terhadap karakteristik lapisan HA yang dihasilkan pada implan Ti-6Al-4V. Proses ECD dilakukan dengan tiga variasi tegangan: 5 V, 10 V, dan 15 V. Karakterisasi dilakukan menggunakan XRD, pengukuran kekasaran permukaan, FESEM-EDX, sudut kontak, dan uji imersi dalam larutan SBF. Hasil pengukuran kekasaran permukaan menunjukkan nilai sebesar 2,113 μm, 0,591 μm, dan 2,479 μm untuk masing-masing tegangan. Sudut kontak yang dihasilkan sebesar 25,281°, 21,872°, dan 17,934°. Analisis FESEM-EDX dan XRD menunjukkan bahwa morfologi lapisan berbentuk granular pada tegangan 5 V, berbentuk jarum pada tegangan 10 V, dan berbentuk serpihan pada tegangan 15 V. XRD mengungkapkan bahwa pada tegangan 5 V dan 10 V, fasa yang terbentuk adalah Ca-def, sedangkan pada tegangan 15 V terbentuk fasa HA, yang dikonfirmasi oleh rasio Ca/P sebesar 1,67 dari hasil EDX. Uji imersi menunjukkan pertumbuhan apatit setelah perendaman dalam larutan SBF selama 14 hari, yang terkonfirmasi oleh morfologi permukaan berbentuk serpihan pada semua variasi tegangan. Kesimpulannya, penggunaan metode ECD dengan kombinasi sinyal AC dan DC menunjukkan potensi signifikan dalam meningkatkan performa implan Ti-6Al-4V melalui pelapisan HA yang optimal.

URI
https://repo.itera.ac.id/depan/submission/SB2409260023

Keyword
arus AC dan DC deposisi elektrokimia hidroksiapatit implan Ti-6Al-4V.