View/Open

Author
Aldy, Fadrian

Advisor
Indra, Pardede, Ph.D

Koleksi
Fisika

Publisher

Film tipis ZnO yang difabrikasi dengan metode spin coating banyak digunakan dalam perangkat optoelektronik, namun metode ini masih perlu dioptimalkan. Pada penelitian ini, film tipis ZnO terdoping Cu akan dibuat dengan metode spin coating untuk mengetahui pengaruh volume dan jumlah deposisi terhadap sifat struktur, mikrostruktur, energi gap dan konduktivitas listrik. Film dibuat dengan volume 0,02, 0,04, dan 0,06 mL dan jumlah deposisi 1, 2, dan 3-layer. Hasil XRD mengkonfirmasi kristal wurtzite heksagonal pada sampel 2 dan 3-layer, sedangkan sampel 1-layer masih berbentuk amorf. Hasil Rietveld refinement pada 3-layer diperoleh parameter kisi a = 3,258 Å, c = 3,206 Å. SEM menunjukkan bahwa peningkatan volume dan deposisi membuat ukuran partikel menjadi lebih kecil hingga 34,09 nm dan lebih padat. Cross section menunjukkan peningkatan deposisi membentuk film dengan ketebalan ZnO/Cu sebesar 1,00 µm pada 3-lapisan. Hasil UV-vis menunjukkan peningkatan volume dan jumlah deposisi dapat menurunkan energi gap hingga 3,03 eV dengan volume lapisan 0,06 mL. Hasil I-V meter menunjukkan bahwa peningkatan jumlah deposisi membuat sampel menjadi lebih konduktif hingga diperoleh konduktivitas terbaik pada 3-layer dengan coating 0,06 mL yaitu sebesar 0,778 ×10-5 Ω-1cm-1. Hasil ini membuktikan bahwa pengaruh deposisi dapat meningkatkan kinerja film ZnO/Cu dan sangat cocok untuk dimanfaatkan pada perangkat optoelektronik. Kata Kunci: film tipis ZnO/Cu, sifat listrik, spin coating, volume dan jumlah deposisi.

URI
https://repo.itera.ac.id/depan/submission/SB2309280005

Keyword