(0721) 8030188    pusat@itera.ac.id   

PENGARUH DOPING Cu TERHADAP PENINGKATAN SIFAT OPTIK FILM ELEKTROKROMIK BERBASIS NiOx


Penggunaan film elektrokromik berbasis NiO pada jendela pintar memiliki kekurangan yaitu nilai modulasi optik (∆T) dan densitas optik (∆OD) yang dihasilkan masih relatif rendah. Pengaturan struktur elektronik NiO dengan pendopingan menggunakan Cu merupakan solusi sederhana yang dapat dilakukan untuk mengatasi kekurangan tersebut. Pada penelitian ini, film elektrokromik NiOx yang terdoping Cu berhasil diperoleh dengan menggunakan metode chemical bath deposition (CBD). Analisis bentuk morfologi film elektrokromik NiOx yang terdoping Cu menggunakan SEM-EDS menunjukkan hasil berupa nanoflower. Hasil analisis menggunakan XRD menunjukkan bahwa film elektrokromik NiOx yang terdoping Cu memiliki ukuran strain sebesar 4,9 × 10-3 dan 4,0 × 10-3 untuk film 5Cu-NiOx dan 0,5Cu-NiOx. Morfologi nanoflower dan ukuran strain yang besar dapat menyediakan lebih banyak situs aktif dan jalur difusi yang dapat meningkatkan jumlah Ni2+ yang teroksidasi menjadi Ni3+ serta mempermudah proses injeksi/ekstraksi OH- ke dalam/ke luar film elektrokromik NiOx sehingga dapat meningkatkan nilai ∆T dan ∆OD. Nilai ∆T dan ∆OD tertinggi pada panjang gelombang 550 nm terdapat pada film 5Cu-NiOx yaitu sebesar 66,4 ± 6,99

URI
https://repo.itera.ac.id/depan/submission/SB2306140007

Keyword