Pengaruh Temperatur Post-Annealing Terhadap Sifat Listrik dan Optik Film Tipis ZnO:Cu
Penelitian ini mempelajari pengaruh pemanasan post-annealing dari lapisan tipis ZnO:Cu yang ditumbuhkan menggunakan metode spray pyrolisis dengan variasi suhu 400℃, 450℃, 500℃, 550℃ dan 600℃ selama 30 menit. Struktural, optik dan sifat listrik film dipelajari dengan menggunakan difraksi sinar-x (XRD), UV-Visible (UV-Vis), I-V (arus-tegangan) dan scanning elektron microscopy (SEM). Film tipis ZnO:Cu menunjukkan orientasi tertinggi pada bidang (002). Energi gap yang dihasilkan pada rentang 3,2 eV menunjukkan perlakuan post-annealing mempengaruhi periodisasi sistem kristal. Dipastikan juga bahwa film ZnO:Cu memiliki intensitas puncak kristal yang tinggi. Rendahnya nilai kerapatan dislokasi dan regangan kisi menjadi pembuktian kualitas film tipis yang dapat meminimalisir cacat kristal. Perlakuan post-annealing menunjukkan peningkatan nilai sensitivitas film tipis tipis terhadap sinar UV. Hasil ini bermanfaat untuk diaplikasikan pada perangkat optoelektronik seperti sel surya.
URI
https://repo.itera.ac.id/depan/submission/SB2009110024
Keyword